誤區(qū)1：自主研發(fā)的成果不申請專利就有知識產(chǎn)權。

　　一些技術人員認為只要是自主創(chuàng)新，就有了自主知識產(chǎn)權。其實不然，專利是一種壟斷權，自主研發(fā)的技術成果如果不申請專利，就得不到法律確認和保護。

　　當他人盜用其研究成果時，因研發(fā)者對成果不具有專利權，得不到法律保護，就無法追究盜用者的法律責任。同時，在我國，專利申請采用的是先申請原則，具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請了，專利就授予誰。

　　因此，研發(fā)者如不及時申請，而被他人搶先申請并被授予專利權，研發(fā)者就無法追究他人的法律責任。這樣的案例在中國可以說是數(shù)不勝數(shù)。

　　誤區(qū)2：產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利。

　　在與發(fā)明人就申請專利的技術內(nèi)容進行交流時，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術方案還未投入生產(chǎn)，也沒有產(chǎn)品問世，此時申請專利是為時過早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請專利更合適。

　　殊不知，這時已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權并提起訴訟，侵權人則會以專利申請之日技術已經(jīng)被公開為由進行抗辯。

　　你不但打不嬴官司，而且以前為申請專利所花費的精力、時間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。專利申請的基礎不是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。

　　誤區(qū)3：專利產(chǎn)品的改進不需再申請專利。

　　有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。這種錯誤認識的后果不異于未申請專利。

　　因為當他人對該產(chǎn)品有了改進并申請了專利，反過來就限制了原專利權人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會導致原專利權人不經(jīng)意間反而變成了侵權人。此時，原專利權人就喪失了自己的知識產(chǎn)權。

　　誤區(qū)4：一項技術成果只能申請一類專利。

　　有部分發(fā)明人認為一項技術成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設計專利。

　　我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利，一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

　　從近兩年的審查情況看，實用新型專利通常4-7個月左右即可授權;發(fā)明專利則需1年多。因此，對于一些重要的產(chǎn)品發(fā)明，若發(fā)明人只申請了發(fā)明專利，而此時他人“雙管齊下”，同時申請發(fā)明專利和實用新型專利，那么他將先獲得實用新型專利，擁有了產(chǎn)品的專利權。發(fā)明人若使用該產(chǎn)品，反而構(gòu)成了侵權。

　　誤區(qū)5：得到了專利證書就獲得了有效的專利權。

　　這是多數(shù)專利權人的普遍認識誤區(qū)。在我國，國家知識產(chǎn)權局對實用新型和外觀設計專利不進行實質(zhì)審查，即使在你申請之前已經(jīng)有人就相同的技術方案申請過相同的專利，你的申請仍可能會被批準。

　　如果沒有人提出異議，你的專利權會維持下去。一旦有人對你的專利提出無效宣告，那么你的專利會百分之百地被無效掉，也就是說你并沒有取得有效的專利權。

　　就發(fā)明專利而言，雖然國家知識產(chǎn)權局對它進行過實質(zhì)審查，但誰也不能保證發(fā)明專利審查部門對世界范圍內(nèi)所有相關的文獻資料都檢索過。所以得到專利證書，并不代表你的專利是真正有效的專利，只是代表國家知識產(chǎn)權行政機關對該專利申請的批準。

　　只有在你的專利有效期內(nèi)沒有人對你的專利提出無效宣告或者有人提出無效宣告但復審委員會經(jīng)過復審后維持了你的專利權，此時你的專利才是真正有效的專利。

　　誤區(qū)6：技術方案交待不清楚。

　　很多單位的發(fā)明人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。

　　要求發(fā)明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。

　　大量的案例表明，如果一件專利申請被審查員以技術方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書，則這件專利申請有98%的可能被駁回。這一點希望引起發(fā)明人的高度重視。

　　誤區(qū)7：專利申請前不做任何檢索。

　　有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過，這也是我國技術人員的通病——信息檢索和收集信息的能力極低。

　　就公開而言，全世界范圍內(nèi)的任何文獻都可影響技術方案的新穎性。就公開使用而言，只有國內(nèi)的使用才影響技術方案的新穎性。也就是說，國外已經(jīng)普遍使用過的東西，如果國內(nèi)沒有出現(xiàn)，各種文獻也沒有相關記載，那你就可以申請專利。

　　如果他人已經(jīng)就某一技術方案申請過專利或者在相關文獻中公開，你沒有做檢索也去就這一技術方案申請專利，那只能是白白浪費時間、金錢和精力了。

　　誤區(qū)8：先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利。

　　有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。

　　因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。

　　誤區(qū)9：對專利缺乏有效的管理。

　　有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。有的專利權已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟，還有的則是專利文書撰寫的申請質(zhì)量差，不能起到應該有的保護作用。

　　誤區(qū)10：缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃。

　　有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要。首先，可以避免時間和精力的浪費。一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結(jié)果導致授權率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費時間和精力。

　　其次，可以突破國外企業(yè)的專利包圍。一個企業(yè)應該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認識，只有這樣才能找到技術突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，從而贏得市場競爭。